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        中试镀膜机/Pilot Coater

        中试镀膜机/Pilot Coater

        • 所属分类:应用案例
        • 浏览次数:
        • 发布日期:2020-04-17 00:00:00
        • 案例描述
        • 性能特点
        • 技术参数

        产品名称:立式中试镀膜机

        产品型号:CRT-V250PilotCoater

        设备用途:样品制备,采用磁控溅射工艺沉积钼Mo、铝Al、AZO、铟镓InGa、铜镓CuGa、碲化镉CdTe等太阳能电池功能膜。

        科瑞达真空的CRT-H250中试镀膜机可以灵活的采用孪生磁控溅射工艺、直流共溅射工艺、直流溅射工艺、和射频溅射等镀膜工艺进行镀膜,广泛应用于CIGS薄膜太阳能电池、CdTe薄膜太阳能电池、金属导电层、实验室多种镀膜方式进行复合膜层的镀膜沉积。


        设计和用途:

        CRT-V250中试镀膜机为实现大面积连续磁控溅射工艺调试的试验线,采用模块化立式腔体设计,按照实际工艺的需要选用工艺模块,可以实现多种材料溅射工艺,共沉积工艺,也多种材料的复合膜层沉积。

        镀膜机分为过渡段和镀膜工艺段;镀膜段有两个靶材尺寸为80*360mm的平面直流磁控溅射阴极;基片架子采用双导杆磁导向传送;基片架加热采用铠装加热管进行加热,同时采用铜电机石墨电接入,防止加热管电接入的稳定和真空打弧。


        技术特点:

        1、操作:全自动,操作方便;

        2、阴极:38mm直径的0.1-2mm厚靶;

        3、溅射:中频溅射、直流溅射和射频溅射;

        4、较精 确控制:较精 确控制沉积膜层厚度,膜厚计为功率*时*次;

        5、真空:针阀控制工艺气流量,稳定真空;

        6、抽气:机械泵、分子泵和插板阀;

        7、膜层质量:溅射沉积工艺可重复性好;

        8、预设控制:预设定工艺参数,分子泵不停机,快速重复镀膜;

        9、温度场:基片架采用铠装加热管加热

        10、基片架:双导杆磁导向往复运行。


        技术参数:

        1、安装:W1460*L2260*H2020mm;

        2、腔体:内空W220*L2200*H1020mm

        3、装载架:W350*L350mm可装载区;

        4、靶材:单靶/双靶80mm*360mm靶;

        5、加热盘:W250*L250mm;

        6、真空范围:ATM*10-5Pa;

        7、溅射:直流、中频和射频磁控溅射;

        8、沉积率:0-50nm/min,0.5nm精度;

        9、设计:模块化,可增加模块;

        10、工艺:流量计和针阀控工艺气体;

        11、电源:220V50HZ

        12、外接法兰:KF16和KF25

        13、真空获得:机械泵、分子泵和插板阀


        设备结构介绍:

        该设备由真空室、真空泵组、装载架、阴极、真空计量和工艺气体控制系统组成。

        1、真空室

        箱式不锈钢腔体(外壁水冷系统),铰链开门;视窗、预抽接口、分子泵接口、KF高低真空计和充气接口;腔体侧壁内部全部设计有三层加热反射板、配有两组1.5KW铠装加热器、四个温度探测点、加热器被不锈钢溅射挡板保护等。

        2、真空机组

        两组分子泵FF200/1300+机械泵TRP12提供高真空抽气,和工艺维护抽气系统;由机械泵TRP12提供腔体前级抽气系统,获得快速工件换装抽气。分子泵和高阀设计安装在腔体顶部,配有相应的插板阀和气动角阀,配有复合式数显真空测量仪。

        3、工艺系统

        工艺控制系统配置有两套靶材为80*360mm的平面内置永磁阴极、一套进口AE双路5KW直流电源、四个工艺流量计(带截止阀)、溅射挡板装置和工装加热旋转自动控制系统;配置有多组冷却水盘管,有效带走沉积过程中产生的热量。

        分子泵和高阀设计安装在腔体顶部,配有相应的插板阀和气动角阀,配有复合式数显真空测量仪,工艺真空可以从10-2Pa-5000Pa,可以满足溅射工艺,真空气氛退火工艺和气氛保护退火工艺等。

        产品名称:立式中试镀膜机

        产品型号:CRT-V250 Pilot Coater


        设备用途:样品制备,采用磁控溅射工艺沉积钼Mo、铝Al、AZO、铟镓InGa、铜镓CuGa、碲化镉CdTe等太阳能电池功能膜。

        科瑞达真空的CRT-H250中试镀膜机可以灵活的采用孪生磁控溅射工艺、直流共溅射工艺、直流溅射工艺、和射频溅射等镀膜工艺进行镀膜,广泛应用于CIGS薄膜太阳能电池、CdTe薄膜太阳能电池、金属导电层、实验室多种镀膜方式进行复合膜层的镀膜沉积。

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