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        薄膜沉积技术
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        真空镀膜机基本技术要求

        2020-08-19 11:15:03

        真空镀膜机基本技术要求如下:   

        1、真空镀膜机中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应符合GB/T6070 的规定。   

        2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管,分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时,应在测量口处安装电场屏蔽装置。   

        3、如果设备使用的主泵为扩散泵时,应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱。   

        4、设备的镀膜室应设有观察窗,应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的情况以及其他关键部位。 

        5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率,提高镀膜材料的利用率,合理匹配沉积源的功率,合理布置沉积源在真空室体的位置。   

        6、合理布置加热装置,一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。   

        7、工件架应与真空室体绝缘,工件架的设计应使工件膜层均匀。   

        8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源,离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置,维持稳定。   

        9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的大小,均按 GB/T11164-1999。

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