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        真空镀膜机的工作原理

        2020-08-25 00:30:05

        真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

        真空镀膜机的工作原理如下:  

        在镀膜领域,镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的一个重要因素。因此,当评价某薄膜样品的性能时,需要检测该薄膜样品不同厚度下的性能。对于真空镀膜的情形,这往往需要进行多次试样的制备。而这样多次制备样品存在两个问题:首先,不同次生长的样品,仪器的状态不同,以至于影响薄膜样品性能的因素可能不仅仅是厚度;其次,真空镀膜实验装取样品需要重新进行真空的获得,非常耗时。增加了生产和检测的成本。  因此,提供一种多功能磁控溅射镀膜系统,本系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成,可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀,并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸发镀膜与手套箱组合,实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作,使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中,消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响,保障了高性能、大面积有机光电器件和电路的制备。  多功能磁控溅射镀膜系统主要用途:用于制备各种金属膜、半导体膜、介质膜、磁控膜、光学膜、超导膜、传感膜以及各种特殊需求的功能薄膜。

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