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        真空镀膜技术中的热点问题

        2020-09-03 07:55:18

        蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等。

        对于蒸发镀膜: 一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。

        厚度均匀性主要取决于:

        1。基片材料与靶材的晶格匹配程度

        2、基片表面温度 

        3. 蒸发功率,速率

        4. 真空度 

        5. 镀膜时间,厚度大小。

        组分均匀性: 蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。

        晶向均匀性: 

        1。晶格匹配度 

        2。基片温度 

        3。蒸发速率溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。 溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。

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