<strike id="ltkks"></strike>
  1. <u id="ltkks"></u>

  2. <code id="ltkks"></code>
      
      
      <thead id="ltkks"></thead>
      <thead id="ltkks"></thead>
      <th id="ltkks"></th>
      <th id="ltkks"></th>
      <object id="ltkks"><nobr id="ltkks"><sub id="ltkks"></sub></nobr></object><th id="ltkks"></th>
      <center id="ltkks"></center>
      1. <big id="ltkks"></big>
        <strike id="ltkks"></strike>

        欢迎来到武汉科瑞达真空科技有限公司!

        武汉科瑞达真空科技有限公司

        18627794936

        薄膜沉积技术
        您当前的位置 : 首 页 > 资讯动态 > 行业资讯

        技术支持technical support

        联系我们Contact Us

        武汉科瑞达真空科技有限公司

        QQ:2307493598

        电话(朱选敏女士):+86-015927165480

        邮箱(朱选敏女士):whcreatec@126.com

        电话(郭爱云先生):+86-018627794936

        邮箱(郭爱云先生):whcreatec_guo@126.com

        网址:www.irangeopos.com

        地址:湖北省武汉市东湖高新技术开发区关南工业园2栋

        阳极膜线性离子源

        2020-09-15 09:25:18

        1、原理  依据阳极层线性封闭漂移理论,气体在离子中的阴阳极之间通过,其阳极的正电压与加在内外阴极端部间的强磁场相互作用,产生等离子体,来自于等离子体中的离子受阳极电场的驱动,由离子源中产生喷出的离子束流。  

        2、用途  可作为基片表面的清洁离子清洗源。  可在柔性基片上直接镀DLC和光学膜、氧化物、氮化物等作为磁控溅射过程中的离子辅助沉积。  

        3、特性  低气压、低电压、高束流。阳极膜离子源产生的低能量、大束流的离子束可以有效去除基片表面的有机污染物和氧化层,增加薄膜的附着力,同时避免对基片轰击时造成损伤(如平板显示器镀膜、柔性基材镀膜)。  

        无灯丝、栅极及中和栅、可长时间稳定运行和生产。非常高的平均无故障时间和极地的维护成本。由于阳极膜离子源无需灯丝,空心阴极等电子中和器而且水冷完全,所有其对镀膜环境的温度改变很小。这个特性对温度敏感基片的镀膜非常有利。同样道理,没有电子中和器使其可以长时间免维护工作。  

        可适应各种反应气体和惰性气体。阳极膜离子源的机构和材料组成使得其完全适应绝大部分反应气体,如氮气、氧气和甲烷等。  

        离子源长度可根据用户需要制造。

        武汉科瑞达真空科技有限公司于2015年创建。公司紧跟先进材料技术前沿,提供新材料真空合成工艺系统设计、工艺流程设计、工艺开发和新材料合成真空系统周边辅助设备开发和制造。致力于分享行业前沿动态,真空镀膜知识等,公司网址:www.irangeopos.com

        标签

        上一篇:保护膜的材质如何区分2020-09-14
        真实乱子伦露脸_国产av一区最新精品_午夜理论2019理论无码_亚洲中文字幕