真空镀膜实质上不同于雾化、熔融以及涂刷等宏观意义上的覆盖。真空镀膜主要通过在基体材料的晶面上施加过电位以促使参与堆积的粒子转化成吸附的原子后排列成相或形成无定形堆积的一种过程。真空镀膜因而这个过程会与基体材料的状态和外表结构息息相关。真空镀膜是一种原子级的堆积过程。考虑的因素主要涵盖下列几个方面。通常安排镀前的准备工作时。　　

真空镀膜经否热处理等的不同成型方法和不一样的加工工艺制成的零件，基材的品种、组织结构、成型方法、加工历史等方面都和PVD镀膜溶液与工艺方案的选择联系密切。不同的资料。PVD镀膜准备工作并不相同。对于重要的制件，真空镀膜安排工艺方案时还须考虑其经历过的环境和加工或工作过的历史。　　

真空镀膜被镀基体材料的实质也会有包括蜡、厚的油封油层、薄层防锈油膜、缓蚀剂等不同的污染物质，真空镀膜经加工成型的制件外表上都可能有加工碎屑、油污杂质、氧化皮或氧化物薄膜、热处理后的油层、粘附的各种物质。真空镀膜需要用不同的方法来处理。