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        真空镀膜技术的发展新趋势

        2020-12-02 10:30:43

        真空镀膜随着PVD镀膜技术应用的迅速推广,吸引了国内外专家们和相关企业积极研发,至今无论是PVD沉积技术、PVD的制备工艺,还是PVD设备配套装备与部件,都有了长足的进步。武汉科瑞达真空科技有限公司下面就真空镀膜技术的发展方向做了如下判断:


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        1.脉冲高能窄峰直流溅射 提高瞬间的轰击能量和溅射靶材的离化率(高至50%~60%),接近电弧的离化率。通过电磁场的作用可以大大增加沉积离子的能量,从而改善膜层的结合力和致密性。

        2.装饰性双色间镀 单一的颜色PVD涂层已满足不了市场的需求,进而提出双色间镀的要求,这是装饰涂层的发展方向,双色间镀的质量成为代表PVD加工企业的生产技术水平标志。

        3.柱状或平面状大面积电弧源 保证高离化率的同时,减少大颗粒沉积的比例,达到既有好的附着力,又有较好的表面光洁度效果。

        4.磁过滤阴极弧 配以高效的电磁过滤系统,将电弧产生的等离子体中的中性宏观粒子、分子团等大颗粒过滤干净,经磁过滤后沉积粒子的离化率高,因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与基体的结合力更强。

        5.全封闭非平衡磁控溅射 通过全封闭非平衡电磁场的作用,大大地提高真空室内的离化率以及沉积速率,增强膜基结合力和薄膜沉积的均匀性。

        6.纳米复合多层膜 纳米沉积技术,是涂层结构未来的发展方向,通过纳米级厚度的不同成份沉积层复合结构膜,实现涂层性能的大大增强。

        7.阳极层离子源辅助沉积 提高轰击清洗的质量,特别是可以实现对非导体的镀前清洗,镀膜时辅助沉积,提高沉积粒子的能量,改善膜层的结合力。

        8.冷阴极电弧 阴极电弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流的弧光放电将靶材气化、离化成等离子体状态,从而实现薄膜材料的沉积。近期阴极电弧蒸发源有新的发展,主要是通过有效强制冷却和电磁场独特的设计,在两者共同作用下,使靶材的离化率更高,薄膜性能更加优异。

        9.中频磁控溅射 增加离化率,减少电荷积累引起的异常放电,预防靶表面中毒现象,沉积工艺更稳定。

        以上就是小编整理的一部分关于PVD镀膜技术发展的新趋势,还有其他你你也可以联系我们进行补充哟!

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