大多数塑料在真空镀膜之前，一般先要涂覆底涂层，武汉科瑞达真空科技有限公司告诉你主要原因是有以下几点：

一：塑料在成型后，表面肯定有的粗糙度，比如有0.5um的粗糙度。

真空镀膜层很薄，很难掩盖基材表面的凹凸不平，如果采用底涂技术，光固化涂层厚度约10~20um，涂层自身粗糙度在0.1um以下，因此可大大提高镀层的光亮度。

二：塑料中含有水分、残留溶剂、单体、低聚合物、增塑剂等，挥发性小分子会在真空或升温环境下逸出表面，严重影响真空镀层对基材的附着力，而采用底涂技术就可阻碍这些小分子的逸出，提高真空镀层对基材的附着力。

三：塑料基材与真空镀层通常为金属)两者热膨胀系数相差很大，在真空镀膜升温、降温过程中膜层容易破裂，膜层越厚，破裂的可能性越大，因此选用合适的涂层作为过渡层，可以减少内应力的积累和破裂的发生。

温度对pvd涂层的影响

1、膜层的生长提高温度，有利于改善膜层的组织和性能。合适的温度下400-600℃，TiN,TiAlN等涂层会获得较好的硬度和结合力。

2、pvd涂层过程中温度与结合力、硬度等并非呈线性关系，涂层过程中温度过低，膜层生长不充分，表面粗糙，耐蚀性和显微硬度下降。温度过高，易生成粗大柱状晶。造成基体材料组织恶化，结合力下降，膜层性能下降。

3、基材温度的升高，能够清除挥发性残渣，增强表面扩散和再结晶能力。界面反应加速，底层杂质扩散。基材融化。增加结晶粒子的尺寸。促进再结晶界面外延生长，减少内部应力，增加步骤覆盖，增加与基片的相互物理化学作用需要的涂层温度取决于工件的金相结构、热处理、工件几何形状，例如，锐边，薄片快速加热并且温度测量十分困难。弧电流、基体偏压和反应气压也会影响到温度。可从180℃开始涂层。工件要在不会引起材料物理变化的温度下涂层。

4、pvd涂层温度超过回火点，使工件变软。

5、如涂层真空室零件较少围绕的工件将聚集更多等离子体，将导致更高的工件温度和更高的沉积率。