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        薄膜沉积技术
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        什么是PVD镀膜靶材优势及原理

        2021-07-13 13:45:41

        物理气相沉积(PVD)是一种薄膜制备技术,武汉科瑞达真空科技有限公司可在真空条件下将靶材的表面物理汽化为气态原子,分子或部分离子化为离子。然后,通过低压气体(或等离子体)将具有特定功能的膜沉积在基板的表面上。物理气相沉积的主要方法包括真空蒸发,溅射沉积,电弧等离子镀,离子镀等。PVD膜沉积速度快,附着力强,衍射性好,应用范围广。


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        PVD镀膜靶材的基本原理

        物理气相沉积技术的基本原理可以分为三个处理步骤:

        (1)镀层材料的气化,即镀层材料蒸发,不类似溅射。

        (2)电镀原子,分子或离子的迁移:原子,分子或离子碰撞后发生各种反应。

        (3)电镀原子,分子或离子沉积在基板上。

        PVD镀膜靶材的优势

        1。耐久性好与其他涂层(例如电镀)相比,PVD涂层有时更硬且更耐腐蚀。

        2。广泛的应用几乎所有类型的无机涂料和某些有机涂料都可以使用多种表面处理剂,用于多种类型的基材和表面。

        3。环保由于PVD涂层工艺是在真空环境中进行的,因此与其他传统涂层技术(例如电镀和喷漆)相比,它对环境更加友好。

        4。方便的清洁:您可以节省(减少)清洁和抛光普通铜(金)产品的时间和成本,并且用软布或玻璃清洁剂足以清洁PVD膜。

        5。高质量和多种选择:PVD膜具有多种颜色,表面细腻光滑,具有金属光泽,不褪色。常见的颜色是金黄色(TiN),亮银(CrN),紫色(TiAlN)等。

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