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        卧式连续镀膜线

        卧式连续镀膜线

        • 所属分类:连续镀膜生产线
        • 浏览次数:
        • 发布日期:2020-04-29 11:26:49
        • 产品概述
        • 性能特点
        • 技术参数

        产品名称:CRT-H750钕铁硼陶瓷柱表面金属化镀膜机

        产品型号:CRT-H750SurfaceMetalizationCoaterSpecification

        设备用途:钕铁硼陶瓷柱表面金属化镀膜机,采用磁控溅射工艺在钕铁硼陶瓷柱表面沉积铽(Tb)金属膜或者镝(Dy)金属膜,并通过扩散处理改善磁性陶瓷的性能。


        科瑞达真空的CRT-H750镀膜机实现了小型陶瓷柱金属化镀膜的大批量批次生产,每天产能可达到4万个;适合钕铁硼磁性陶瓷柱表面金属化功能膜的镀膜,例如溅射铽、镝和铝等表面改性薄膜;镀膜机采用全自动化设计,连续批次生产,生产效率高,洁净度高,可靠性好。


        卧式批次式磁控溅射镀膜机,分为四个部分:进出片腔体、前过渡腔体、镀膜工艺腔体和后过渡腔体;镀膜工艺腔体为标准真空镀膜腔体(每个腔体上设计有三个阴极安装门板上,每个门板可以安装两个平面阴极);镀膜机配置有5台FF250/1600分子泵,并配有相应的前级抽气系统;工件架采用齿轮齿条公自转运行架;在进出片腔体前方设计有一个进片等待架,方便快速装载被镀膜工件,两套装载架,一用一装,可以快速配合生产。


        技术特点:

        1、大批量工业化生产;

        2、生产线减少生产对环境和人体的损害;

        3、较好控制渗镝和渗铽的量,节约了稀有材料的使用,提高了利用率;

        4、增强了渗镝和渗铽的深度,提高性能;

        5、标准化、模块化设计,工艺模块可以根据实际的生产需求进行局部的改善和调整;对工艺和产品的升级简单成本低。


        技术参数:

        1、安装:W7000*L7600*H1500mm;

        2、腔体:W1650*L4800*H500mm

        3、装载架:W1050*L1050mm;

        4、靶材:孪生W110*L1050mm靶;或者孪生Φ110*L1050mm靶

        5、被镀件:Φ5-Φ20的陶瓷柱;

        6、真空范围:ATM*6*10-4Pa;

        7、溅射:直流磁控溅射;

        8、沉积率:小于0.5um/次,3-6分钟/次;

        9、设计:真空腔和工艺模块化设计;

        10、工艺:流量计和阀控工艺气体;

        11、电源:380V50HZ

        12、外接法兰:KF16和KF25

        13、真空获得:机械泵、罗茨泵和分子泵


        一、设备结构介绍:

        该设备由真空室、真空泵组、装载架、阴极、真空计量和工艺气体控制系统组成。

        (1)进出片腔体:尺寸W1570*L1450mm*H500mm的真空腔体,腔体板厚20mm外冷却,配有观察窗;真空抽气部分配置:1台2X-30机械泵,1台ZJP300罗兹泵;2台FF250/2000分子泵,1台2X-70机械泵;与大气之间采用独立翻板阀锁紧,动作简单有效;真空度达到8Pa少于60秒;

        (2)前后过渡腔体:尺寸W1570*L1650mm*H500mm的真空腔体,腔体板厚20mm外冷却;真空抽气部分镀膜腔体和过渡腔共用前级:1台FF250/2000分子泵,1台2X-70机械泵(与镀膜室共用),电离规和电阻规安装在腔体顶上和管道上;气体隔离装置:与大气之间采用独立插板阀,动作简单有效;维持真空在10-1Pa-10-3Pa之间进行镀膜;基片架小车真空内平移,并实现快慢速转换;

        (3)镀膜腔体:尺寸W1570*L1750mm*H500mm的真空腔体;真空抽气部分配置:4台FF250/2000分子泵;

        二、溅射镀膜工艺系统

        该设备溅射镀膜工艺系统由一个镀膜腔体组成,每个腔体上设计有三个工艺模块,每个工艺模块可安装两个平面阴极或者两个旋转阴极,最多可安装6个平面阴极或旋转阴极;

        孪生平面阴极,W100*L1050mm;孪生旋转阴极,Φ110*L1050mm;电源功率15-20kw的直流电源。

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